Micro nano technology and high-end precision manufacturing
为客户创造更大价值
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Semiconductor field
半导体材料、 工芝和装备的研发设计 生产制造商
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微米晶和纳米晶金刚石薄膜的研发和生产
大尺寸金刚石多晶晶圆片,用于大功率器件、
高频器件及大功率激光器的散热热沉
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Industrial/research grade thin film deposition equipment
半导体材料与器件、微纳材料与器件及高级精密制造技术的研发设计和生产制造商
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Advanced semiconductor material supplier based on autonomous equipment
PECVD 等离子体增强化学气相沉积设备主要用于在
洁净真空环境下进行氮化硅和氧化硅的薄膜生长
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总程系统
设备整体为cluster结构,由光电转换薄膜沉积系统、MAMS 电子剥离系统、排气封装系统、吸气材料真空涂敷系统、整体除气系统组成。可实现整体自动协调操作,也可各系统独立运行,互不干扰,系统间可设置互锁。316材质制造,预留若干法兰接口。
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HFCVD 热丝化学气相沉积设备
研发设计制造了热丝CVD金刚石设备,分为实验型设备和生产型设备两类。
设备主要用于微米晶和纳米晶金刚石薄膜的研发和生产。可用于力学级别、热学级别、光学级别、声学级别的金刚石产品的研发生产。
可以制造大尺寸金刚石多晶晶圆片,用于大功率器件、高频器件及大功率激光器的散热热沉。
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高真空磁控溅射仪(生产型)
工业级高真空磁控溅射仪是用大尺寸磁控溅射靶进行溅射的方法,用于薄膜陶瓷镀膜工序Cu/Ti微结构,Au/TiW传输导线双体系膜层淀积能力,为微系统集成密度提升提供支撑。适用于镀制各种单层膜、多层 膜、掺杂膜及合金膜;可镀制磁性材料和非磁性材料。本设备优点:膜层均匀性及重复性高,膜层附着力强,设备依据工艺配方进行可编程自动化控制。
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MBE分子束外延设备
分子束外延薄膜生长设备(MBE)(分子束外延MBE)该设备可以在某些衬底上实现外延生长工艺,实现分子自组装、超晶格、量子阱、一维纳米线等。可以进行第二代半导体和第三代半导体的工艺验证和外延片的生长制造。
分子束外延薄膜生长设备在薄膜外延生长时具有超高的真空环境,是在理想的环境下进行薄膜外延生长,它可以排除在薄膜生长时的各种干扰因素,得到理想的高精度薄膜。
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公司立足于技术前沿与市场前沿的交叉点,寻求创新引领与可持续发展,解决产业的痛点和国产化难题,争取产业链的自主可控。
公司核心业务是微纳技术与高端精密制造,具体应用领域包括半导体材料、半导体工艺和半导体装备的研发设计和生产制造。
公司人才团队知识结构完整,有以哈工大教授和博士为核心的高水平材料研究和工艺研究团队;还有来自工业界的高级装备设计师团队,他们具有20多年的半导体材料研究、外延技术研究和半导体薄膜制备成套装备设计、生产制造的经验。
公司依托于哈尔滨工业大学(深圳),具备先进的半导体研发设备平台和检测设备平台,可以在高起点开展科研工作。公司总部位于深圳市,具备半导体装备的研发、生产、调试以及半导体材料与器件的中试、生产、销售的能力。
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依托哈尔滨工业大学(深圳)完备的实验平台和测试分析平台,为研发和生产提供支撑。
全国第三代半导体大会在苏州纳米城开幕
2024-10-23
2024 年 10 月 22 日,由今日半导体主办的 2024 全国第三代半导体大会在苏州纳米城隆重开幕。此次大会吸引了众多行业精英和企业代表,现场气氛热烈,盛况空前。作为行业领军者的凯发旗舰厅半导体也携PVD镀膜设备、HFCVD 热丝化学气相沉积设备、分子束外延MBE、等离子体增强化学气相沉积 PECVD设备及解决方案亮相本次大会,吸引了来自全国各地业内人士及行业专家的目光,成为会议的一大亮点。
凯发旗舰厅半导体亮相武汉第五届中国新材料产业发展大会
2024-10-15
在金秋十月的武汉,一场汇聚全国乃至全球新材料领域顶尖智慧的盛会——第五届中国新材料产业发展大会即将拉开帷幕。此次大会于2024年10月16日至18日在湖北省武汉市经开区中国车谷国际体育文化交流中心隆重举行,由中国材料研究学会主办,吸引了众多新材料产业界的佼佼者参与。其中,凯发旗舰厅半导体技术(深圳)有限公司(简称“凯发旗舰厅半导体”)作为行业内的佼佼者,将亮相大会,展示其在半导体领域的最新成果与技术创新。
等离子镀膜仪的特点与功能优势
2024-08-12
等离子镀膜仪是一种表面处理装备,具有广泛的应用领域和重要的功能优势。它主要用于表面涂覆和改性处理。通过将材料暴露在等离子体环境中,利用离子轰击和反应沉积的机制,可实现对材料表面的改性和涂覆。这项技术在各个行业都有广泛的应用,例如电子、光电、医疗、汽车等领域。
磁控溅射镀膜仪的用途与注意事项
2024-07-29
磁控溅射镀膜仪(PVD镀膜设备)是一种常见的表面镀膜设备,是在真空条件下利用蒸发或溅射在基体表面沉积薄膜的技术,制备金属、合金、化合物、半导体、陶瓷、介质复合膜及其它化学反应膜等,适用于镀制各种单层膜、多层膜、掺杂膜及合金膜,可镀制磁性材料和非磁性材料。广泛应用于电子、光电、光学、医疗等行业。为了确保其正常使用并获得良好的镀膜效果,以下是使用磁控溅射镀膜仪时需要注意的一些细节和技巧。